NFT：電子ビームマスク描画装置

職種

• CAE解析

• 光学設計

• 回路設計

仕事内容

■仕事内容：　半導体市場の拡大や弊社の事業の大拡大に伴う人材の確保を目的として、積極的にエンジニアの採用を進めています。 光学設計に少しでもかかわった事のある方にチャレンジして頂きたい案件です。 【業務内容】 〇次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務。マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する。 広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計をお願いしたい。 【職場や職務の魅力】 〇 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。 フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、より高い描画精度が求められる為、高機能な光学設計を組み込むことが、次世代装置開発に求められる課題となります。その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。課題解決への道筋がつけられない際は、経験豊富なベテラン光学設計者からのアドバイスも得られ、自らの光学設計者としての成長が期待できる職場です。

求める能力・経験

【必須】 ・大学生レベルの力学、電磁気学、数学の知見を用いた研究経験や、業務経験をお持ちの方（大学や大学院での経験でも可） ※電子の動き、電子間の力学、オームの法則、磁場変動などに理解があり、日常生活に転換できるレベルの知識をお持ちの方 【歓迎】 ・電子顕微鏡、半導体製造装置等の、荷電粒子ビームの軌道計算や光学設計などに従事した経験のある方 ・荷電粒子ビーム光学シミュレーター、電界や磁界のシミュレーターなどの利用経験のある方。 ・電子顕微鏡等を手動で調整した経験のある方 ・技術文書、論文などの英語（主に読解）に抵抗が少ない方

学歴

大学院（博士）、大学院（修士）、4年制大学、高等専門学校

雇用形態

給与

400万円〜1,100万円

勤務時間

休日・休暇

125日 内訳：完全週休2日制、土曜 日曜 祝日

社会保険

備考

配属先

転勤

住所

神奈川県横浜市

制度

その他

制度備考